发明名称 Photosensitive Resin Composition for Dry Film Photoresist
摘要 <p>본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 포함되는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 현상액에 대한 내성을 가져 세선 밀착성 및 해상성을 향상시키고, 특히, 박리 시에 빠른 박리 속도와 박리된 시편의 크기가 작게 쪼개져 경화막의 박리 특성도 우수하며, 레이저 다이렉트 노광기에도 적합하여 노광 공정의 속도가 전체 생산 속도를 좌우하는 업체나, PCB, 리드 프레임, PDP, 및 기타 디스플레이 소자 등에 이미지를 생성하는 데 있어서 생산성을 극대화시킬 수 있다.</p>
申请公布号 KR101548412(B1) 申请公布日期 2015.08.28
申请号 KR20120157531 申请日期 2012.12.28
申请人 发明人
分类号 G03F7/028;G03F7/09 主分类号 G03F7/028
代理机构 代理人
主权项
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