发明名称 SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
摘要 <p>본 발명은 인라인 형태로 배치된 복수의 공정챔버 사이에 기판 반송장치를 통해 기판을 양방향으로 반송하여 기판의 반송 효율을 향상시킬 수 있도록 한 기판 처리 시스템에 관한 것으로, 기판 처리 시스템은 기판을 로딩하는 로딩 챔버; 인라인 형태로 서로 마주보도록 이격 배치되어 상기 기판에 대한 반도체 제조공정을 수행하는 적어도 2개의 공정 챔버; 및 상기 공정 챔버 사이에 배치되어 양방향 슬라이딩을 통해 상기 로딩 챔버로부터의 기판을 서로 마주보는 상기 공정 챔버 각각으로 반송하는 기판 반송장치를 가지는 적어도 하나의 트랜스퍼 챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101547340(B1) 申请公布日期 2015.08.28
申请号 KR20080105201 申请日期 2008.10.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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