| 发明名称 |
METHODS TO PREPARE SILICON-CONTAINING FILMS |
| 摘要 |
【課題】ケイ素含有膜を調製するための方法を提供する。【解決手段】ケイ素、酸化物そして任意選択で窒素、炭素、水素およびホウ素を含む誘電体膜を形成する方法が提供される。さらに、例えば半導体ウェハーなどの加工対象物の上に誘電体膜またはコーティングを形成するための方法が提供される。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2015156514(A) |
申请公布日期 |
2015.08.27 |
| 申请号 |
JP20150091938 |
申请日期 |
2015.04.28 |
| 申请人 |
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INC |
发明人 |
YANG LIU;XIAO MANCHAO;HAN BING;CUTHILL KIRK S;O'NEILL MARK L |
| 分类号 |
H01L21/316;C23C16/18;C23C16/42;C23C16/455;C23C16/50 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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