EUV PELLICLE, EUV ASSEMBLY USING THE SAME, AND ASSEMBLING METHOD THEREOF

摘要

【課題】ウェハー上に投影されるメッシュ構造体の像影の濃淡コントラストを低減させることができるEUV用ペリクルとこれを用いたEUV用アセンブリーおよびその組立方法を提供する。【解決手段】ペリクル膜をメッシュ構造体で補強したペリクル膜構造体およびこのペリクル膜構造体を保持するペリクル枠で構成されるものであって、前記メッシュ構造体は、EUV光がマスク面で反射することでEUV用ペリクルを２回通過してウェハー上に２種類の像影として投影されるものであり、その像影のコントラスト比を２５％以下に低減させることができるスタンドオフ値に設定されている。このスタンドオフ値は、０．３ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲内に設定される。【選択図】図１