光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法

摘要

本发明提供光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法，在进行接近式曝光时，提高保持区域附近的图案转印精度。一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，在该光掩模用基板中，在四边形的第1主表面上的形成有转印用图案的图案区域之外，在第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持光掩模时，保持部件与抵接面抵接，关于保持区域，在设保持区域内的平坦度指数为Fsx、保持区域外的平坦度指数为Fex时，满足Fsx≤Fex。

主权项

一种接近式曝光用光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成用于制造显示装置的转印用图案而成为接近式曝光用光掩模，所述第1主表面具有长边L1为600mm～1400mm、短边L2为500mm～1300mm的四边形状，该接近式曝光用光掩模用基板的特征在于，在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述抵接面抵接，关于所述保持区域，在设该保持区域内的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsx时的[Zsx/P]为平坦度指数Fsx时，满足5≦P≦15且Fsx≦0.08，其中，所述Zsx的单位是μm，所述P的单位是mm。