| 发明名称 | 影印光刻用的均匀准直的照明模组和阵列照明系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种影印光刻用的均匀准直的照明模组，包括光源，所述光源为紫外LED光源，所述照明模组还包括至少两个用于使所述紫外LED光源射出的光线聚焦成像的聚焦透镜和至少一将聚焦成像后的光线准直透射至被照面形成光斑的准直透镜，所述聚焦透镜和准直透镜依次排列在所述紫外LED光源射出光线的一侧，且所述准直透镜的焦点与所述聚焦透镜的成像面重合。本实用新型使用紫外LED灯替代汞灯，通过透镜的光束造型和排列，能够得到超长寿命、高度均匀、准直、高强度、大面积的照明领域，可以达到被照面均匀度8％以下，准直后半强度发散角小于±2°的水平，满足光刻应用的超高要求。 | ||
| 申请公布号 | CN204593030U | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
| 申请号 | CN201520025244.5 | 申请日期 | 2015.01.14 |
| 申请人 | 埃赛力达科技（深圳）有限公司 | 发明人 | 张磊;肖尚平;陈振超;胡涛 |
| 分类号 | F21S8/00(2006.01)I;F21V5/04(2006.01)I;F21Y101/02(2006.01)N | 主分类号 | F21S8/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人 | 高占元;吴静 |
| 主权项 | 一种影印光刻用的均匀准直的照明模组，包括光源，其特征在于，所述光源为紫外LED光源(11)，所述照明模组还包括至少两个用于使所述紫外LED光源(11)射出的光线聚焦成像的聚焦透镜(12)和至少一将聚焦成像后的光线准直透射至被照面形成光斑的准直透镜(13)，所述聚焦透镜(12)和准直透镜(13)依次排列在所述紫外LED光源(11)射出光线的一侧，且所述准直透镜(13)的焦点与所述聚焦透镜(12)的成像面重合。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区科技园科发路10号维用科技大厦 | ||