一种用于去除真空部件上ITO残渣的工艺方法

摘要

本发明涉及一种用于去除真空部件上ITO残渣的工艺方法，将表面存有ITO残渣的真空部件按照如下工艺步骤进行处理：碱洗—酸洗—清洗—风干—喷砂处理—浸泡—烘烤除湿。按照碱洗、酸洗、清洗、喷砂处理、浸泡、烘烤除湿等工序对真空部件表面进行处理，保证部件表面清洁、干净，同时喷砂处理使得工件表面粗糙度增加，磁控溅射镀膜时ITO残渣不易脱落。

主权项

一种用于去除真空部件上I TO残渣的工艺方法，其特征在于，将表面存有I TO残渣的真空部件按照如下工艺步骤进行处理：(1)碱洗将待处理的真空部件放置在存放槽中，并使真空部件浸入质量分数为25％的NaOH溶液中，NaOH溶液加热至80℃，浸泡2‑4h后取出真空部件沥干，再放入清洗槽清洗后取出沥干；(2)酸洗将已沥干的真空部件放入质量分数为25％的稀硫酸溶液中，稀硫酸溶液加热至50℃，浸泡2‑4h后取出真空部件沥干；(3)清洗沥干后的真空部件放入清洗槽浸泡清洗，清洗时应用清洗工具将真空部件上面的I TO残渣全部清洗干净，再将清洗后的真空部件放入漂洗槽漂洗，漂洗过后的真空部件再用高压清洗机对其进行冲洗后沥干；(4)风干将清洗好的真空部件，放在工件架上用电扇或热风枪吹干水分；(5)喷砂处理将已风干的真空部件进行喷砂处理，喷砂处理使用压力为6MPa以上，处理时间0.5‑2h；(6)浸泡将喷砂好的真空部件放置在清洗槽中浸泡1h后取出，沥干水分；(7)烘烤除湿将已沥干水分的真空部件摆放在烘箱中进行烘烤，烘烤温度80℃，烘烤时间1‑2h。