| 发明名称 | 具有可转动支承在把手壳体中的滚筒的等离子体处理设备 | ||
| 摘要 | 一种等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场处理一表面，等离子体场在一被供给高压的电极(16)与所述表面之间产生，其中，所述电极(16)与一围住电极(16)的电介质(17)构成一可转动地支承在一把手壳体(1)中的滚筒(6)，滚筒能够在所述表面上滚动，等离子体处理设备具有扩宽的处理场并通过如下方式允许了所述表面的受限定的且受控制的等离子体处理，即，滚筒(6)构造得能够柔性地适配所述表面的不平整性并具有一滚动表面，该滚动表面具有凸起(19、19')，构成等离子体场的空隙(20)处在这些凸起之间。 | ||
| 申请公布号 | CN104871650A | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
| 申请号 | CN201480003473.5 | 申请日期 | 2014.01.02 |
| 申请人 | 奇诺格有限责任公司 | 发明人 | L·特鲁特威格;K-O·施托克;D·万德克;M·科普;G·达施莱恩 |
| 分类号 | H05H1/24(2006.01)I;A61L2/14(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 侯鸣慧 |
| 主权项 | 等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场来处理一表面，所述等离子体场在一被供给高压的电极(16)与所述表面之间产生，其中，所述电极(16)与一围住所述电极(16)的电介质(17)构成一能转动地支承在一把手壳体(1)中的滚筒(6)，所述滚筒能够在所述表面上滚动，其特征在于，所述滚筒(6)构造得能柔性适配所述表面的不平整性并具有一滚动表面，所述滚动表面具有凸起(19、19')，构成所述等离子体场的空隙(20)处在这些凸起之间。 | ||
| 地址 | 德国杜德施塔特 | ||