薄膜气相沉积装置

摘要

本发明提供一种薄膜气相沉积装置。薄膜气相沉积装置包括：腔室，其内部具有预设空间；基板支撑部件，配置于腔室内并且基板配置于其上；以及气体供应部件，包括至少一个用以供应处理气体至基板的供应通道，以及含气体活化单元用以活化处理气体的活化通道。在此，活化通道的底部具有开口部，同时活化通道的上部经密封。

主权项

一种薄膜沉积装置，包括：腔室，具有预设的内部空间；基板支撑部件，配置于所述腔室内并且支撑基板；以及气体供应装置，具有至少一个供应通道及活化通道，所述供应通道用以供应处理气体至所述基板，所述活化通道含有气体活化单元用以活化所述处理气体，其中所述活化通道具有打开的下部与密封的上部。