| 发明名称 | 一种基于三重态-三重态湮灭的上转换发光聚合物材料 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基于三重态-三重态湮灭的上转换发光聚合物材料，其特征在于，该上转换发光聚合物材料包括三种单体原料：光敏剂单体PtMA、受体单体DPAMA和丙烯酸酯单体；光敏剂单体PtMA和受体单体DPAMA的结构式分别为：<img file="DDA0000706725330000011.GIF" wi="1722" he="870" />式中，R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>选自H或甲基，R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>可相同也可不同。本发明的上转换发光聚合物材料中光敏剂及受体掺杂量大，成膜性能良好，易于加工处理，能够实现低激发光功率条件下的溶液和固态上转换发光，是一种新型的上转换发光聚合物材料。 | ||
| 申请公布号 | CN104861106A | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
| 申请号 | CN201510205016.0 | 申请日期 | 2015.04.27 |
| 申请人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明人 | 陈金平;于帅;李嫕;曾毅;于天君;张小辉 |
| 分类号 | C08F220/14(2006.01)I;C08F220/18(2006.01)I;C08F238/00(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人 | 张文祎 |
| 主权项 | 一种基于三重态‑三重态湮灭的上转换发光聚合物材料，其特征在于，该上转换发光聚合物材料包括三种单体原料：光敏剂单体PtMA、受体单体DPAMA和丙烯酸酯单体；光敏剂单体PtMA和受体单体DPAMA的结构式分别为：<img file="FDA0000706725300000011.GIF" wi="1721" he="875" />式中，R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>选自H或甲基，R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>可相同也可不同。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村东路29号 | ||