具备半圆形天线的基板处理装置

摘要

根据本发明一实施例，基板处理装置具备：用于实行基板加工的腔体；设置在所述腔体的内部并用于放置所述基板的基板支撑台；以及设置在所述腔体上部且用于在所述腔体内部形成电场（electricfield）的天线，所述天线具备以已设定的中心线为基准对称配置的第一天线和第二天线，所述第一天线具备：分别具有第一半径和第二半径且以已设定的中心线为基准分别位于一侧和另一侧的半圆形的第一内侧天线和第一中间天线；连接所述第一内侧天线和所述第一中间天线的第一连接天线，所述第二天线具备：分别具有所述第一半径和第二半径且以所述中心线为基准分别位于一侧和另一侧的半圆形的第二中间天线和第二内侧天线；连接所述第二中间天线和所述第二内侧天线的第二连接天线。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置具备：用于实行基板加工的腔体；设置在所述腔体的内部并用于放置所述基板的基板支撑台；以及设置在所述腔体上部且用于在所述腔体内部形成电场的天线，所述天线具备以已设定的中心为基准旋转对称地配置的第一天线和第二天线，所述第一天线具备：分别具有第一半径和第二半径且以已设定的中心线为基准分别位于一侧和另一侧的半圆形的第一内侧天线和第一中间天线；连接所述第一内侧天线和所述第一中间天线的第一连接天线，所述第二天线具备：分别具有所述第一半径和第二半径且以所述中心线为基准分别位于一侧和另一侧的半圆形的第二中间天线和第二内侧天线；连接所述第二中间天线和所述第二内侧天线的第二连接天线,所述基板处理装置还具备流入口和流出口对称的喷头，所述流入口用于向所述腔体内部供给反应气体，所述流出口用于将已供给于所述腔体内部的所述反应气体排出，所述喷头具有连接于所述流入口且随所述反应气体的流动方向截面积增加的多个扩散流路以及将所述扩散流路相互连接的流入连接流路。