发明名称 |
物体检查系统和方法 |
摘要 |
用于物体检查的方法和系统包括基于不想要的微粒与将要被检查的物体相比由于其不同的材料带来的不同的响应,使用分光技术检查物体表面上的不想要的微粒。使用来自物体表面的次级光子发射的能量分辨光谱术和/或时间分辨光谱术获得拉曼和光致发光光谱。将要被检查的物体可以例如是在光刻过程中使用的图案形成装置,诸如掩模版,在这种情况下,可以检测例如金属、金属氧化物或有机物微粒的存在。方法和设备非常敏感,因而能够检测EUV掩模版的图案侧上的小的微粒(例如亚100nm,其至亚50nm)。 |
申请公布号 |
CN102472962B |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201080034422.0 |
申请日期 |
2010.07.02 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
V·伊万诺夫;A·邓鲍夫;V·班尼恩;L·斯卡克卡巴拉兹;N·伊欧萨德 |
分类号 |
G03F1/84(2012.01)I;G03F1/22(2012.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/95(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种物体检查方法,包括下列步骤:用辐射束照射所述物体,用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射,和如果检测到的时间分辨光谱信号与在没有微粒存在时所述物体发射的信号不同,则确定存在微粒;其特征在于:所述用辐射束照射所述物体的步骤包括从多于一个方向提供离轴照射,其中,在所述物体的整个第一区域上执行所述方法;和如果检测到微粒,则对所述第一区域的子部分重复所述方法。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |