一种应用双离子束镀膜技术在W表面制备W-Cr合金层的方法

摘要

本发明公开了一种应用双离子束镀膜技术在W表面制备W-Cr合金层的方法。它是采用的双Ar离子束镀膜法，对抛光后的W基表面镀上一层薄薄的Cr膜，在W和Cr的界面处形成W-Cr合金层，该合金层晶粒粒度比W晶粒小，可以很好的改善W晶体的晶面结构，阻止晶界的形成，改善W的表面性能。对在H等离子体辐照下W中H的滞留起泡行为及其他辐照损伤的产生起到很好的阻止作用。原理图如图1，双离子束镀膜示意图,每个标号对应的名称如下：1-辅助溅射Ar离子源，2-主溅射Ar离子源，3-Cr靶材，4-样品台，5-W基片，6-Ar离子溅射源,7-真空室。

主权项

一种应用双离子束镀膜技术在W表面制备W‑Cr合金层的方法，包括以W作为基底，以Cr做靶材，采用双离子束镀膜方式，其特征在于：所采用的方法是双离子束镀膜法，所用的基片是W块材，所用的靶材是Cr靶材，双离子束由溅射源和辅助溅射源，双离子束的两种溅射源是同种元素。