发明名称 | 带有绝缘埋层衬底的制备方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种带有绝缘埋层衬底的制备方法,包括如下步骤:提供具有相同材料的支撑衬底和器件衬底;采用单面抛光工艺抛光支撑衬底的表面;在支撑衬底的抛光后表面和/或器件衬底的一表面形成绝缘层;以绝缘层为中间层将支撑衬底和器件衬底键合在一起;研磨减薄器件衬底;采用单面抛光工艺抛光器件衬底的被研磨表面,所采用的工艺参数与抛光支撑衬底表面相同。本发明的优点在于,两次抛光工艺采用相同的工艺条件,故抛光后的器件衬底表面应当拥有与支撑衬底表面相同的表面形貌,这样器件衬底表面与支撑衬底表面的形貌配合,能够保证了器件层的厚度是均匀的。 | ||
申请公布号 | CN102768981B | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
申请号 | CN201210233324.0 | 申请日期 | 2012.07.06 |
申请人 | 上海新傲科技股份有限公司 | 发明人 | 魏星;王文宇;曹共柏 |
分类号 | H01L21/762(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/762(2006.01)I |
代理机构 | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人 | 孙佳胤;翟羽 |
主权项 | 一种带有绝缘埋层衬底的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: 提供具有相同材料的支撑衬底和器件衬底; 采用单面抛光工艺抛光支撑衬底的表面; 在支撑衬底的抛光后表面和/或器件衬底的一表面形成绝缘层; 以绝缘层为中间层将支撑衬底和器件衬底键合在一起; 研磨减薄器件衬底; 采用单面抛光工艺抛光器件衬底的被研磨表面,所采用的工艺参数与抛光支撑衬底表面相同,以使抛光后的器件衬底表面具有与抛光后的支撑衬底表面相同的表面形貌。 | ||
地址 | 201821 上海市嘉定区普惠路200号 |