发明名称 |
激光退火方法、装置以及微透镜阵列 |
摘要 |
本发明提供一种激光退火方法、装置以及微透镜,能够以不同于非晶硅膜中的晶体管形成预定区域的间距的较大间距来构成微透镜阵列,又能够以小于微透镜阵列的排列间距的间距来形成通过对非晶硅膜进行激光退火而产生的微小多晶硅膜区域。第1组(11)、第2组(12)以及第3组(13)的微透镜在各组内3列以同一间距P排列,在各组间微透镜则以P+P/3隔离。在第1工序中,从第1组的3列微透镜照射第一次激光,在第2工序中,在使衬底(20)移动了3P的时刻从2×3列微透镜(5)照射第二次激光,以后同样地以P/3间距形成激光退火区域。 |
申请公布号 |
CN102844839B |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201180020284.5 |
申请日期 |
2011.04.11 |
申请人 |
株式会社V技术 |
发明人 |
水村通伸;渡边由雄;畑中诚 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
何欣亭;李浩 |
主权项 |
一种激光退火方法,使用激光照射装置,所述激光照射装置具有:微透镜阵列,以m列且各列多个微透镜来配置,其中,m为自然数;掩蔽罩,具有与各微透镜对应的开口部;激光发生源;导光部,将来自该发生源的激光引导到所述掩蔽罩以及微透镜;驱动部件,使包含所述掩蔽罩以及微透镜的激光照射系统与衬底相对地沿与所述微透镜的列相垂直的方向移动,所述激光退火方法特征在于,所述m列微透镜,每n列形成一组,其中,n为2以上的自然数且满足n<m,在各组之中微透镜以同一间距P排列,在各组相互间微透镜则以P+P/n隔离,在第1工序中,从n列微透镜对所述衬底上的非晶硅膜照射第一次激光而进行激光退火,在第2工序中,在使所述激光照射系统与所述衬底相对地移动了n×P的时刻,从2×n列微透镜对所述衬底上的非晶硅膜照射第二次激光而进行激光退火,以后同样地进行多次激光照射,以P/n间距形成激光退火区域。 |
地址 |
日本神奈川县横浜市 |