发明名称 一种柔性CdTe薄膜太阳能电池及其制备方法
摘要 一种制备柔性CdTe薄膜太阳能电池的方法,该制备方法的工艺步骤包括以下步骤:1)清洗云母基底(1);2)在云母基底(1)上生长透明导电薄膜(2);3)在基底(1)的透明导电薄膜(2)上生长CdS(3),然后在CdS(3)上面生长CdTe(4)薄膜;4)在有CdCl<sub>2</sub>蒸汽的气氛中对步骤(3)制备的CdS和CdTe薄膜进行退火处理;5)在经退火处理后的CdTe薄膜上蒸镀导电背电极;至此制得所述的柔性CdTe多晶薄膜太阳能电池。
申请公布号 CN102800719B 申请公布日期 2015.08.26
申请号 CN201210265537.1 申请日期 2012.07.27
申请人 中国科学院电工研究所 发明人 李辉;刘向鑫
分类号 H01L31/0392(2006.01)I;H01L31/0296(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 主分类号 H01L31/0392(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 关玲
主权项 一种制备柔性CdTe薄膜太阳能电池的方法,其特征是制备所述柔性CdTe薄膜太阳能电池的工艺包括以下步骤:1)清洗云母衬底(1);2)在云母衬底(1)上生长透明导电薄膜(2);所述的透明导电薄膜(2)为In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:Sn(ITO)或ZnO:Al(AZO)或InO:B(BZO)或In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:Mo(IMO)或石墨烯或ZnSnO<sub>3</sub>或SnO<sub>2</sub>:F(FTO)或NiO或Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>或Cd<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>或ZnO:Ti(TZO);3)在制备好透明导电薄膜(2)的云母衬底(1)上依次生长CdS和CdTe薄膜:在磁控溅射炉放置基底的位置上放上制备好透明导电薄膜(2)的云母衬底(1),盖上磁控溅射炉的炉盖,对磁控溅射炉腔室抽真空,并升温使云母衬底(1)的温度保持在25‑1100℃;当背底真空到达10<sup>‑3</sup>Pa以下,开始溅射CdS多晶薄膜(3);当在云母衬底(1)上的透明导电薄膜(2)上生长CdS多晶薄膜(3)的厚度为20‑50nm时,停止CdS多晶薄膜(3)的制备;把云母衬底(1)转向正对CdTe靶的位置,开始溅射CdTe多晶薄膜(4);当在CdS多晶薄膜(3)上所溅射的CdTe厚度0.5‑2μm时,停止CdTe多晶薄膜(4)的制备,同时停止对云母衬底(1)加热,待云母衬底(1)温度降低到室温时,取出沉积了CdS多晶薄膜(3)和CdTe多晶薄膜(4)的云母衬底(1);4)在有CdCl<sub>2</sub>蒸气的气氛中对步骤(3)制备的CdS多晶薄膜(3)和CdTe多晶薄膜(4)进行退火处理;5)在经退火处理后的CdTe多晶薄膜(4)上蒸镀导电背电极(5);至此制得柔性CdTe多晶薄膜太阳能电池;所述的柔性CdTe薄膜电池采用云母做为衬底,其结构为云母衬底(1)上为透明导电薄膜(2),透明导电薄膜(2)的上层为CdS多晶薄膜(3),CdS多晶薄膜(3)的上层为CdTe多晶薄膜(4),CdTe多晶薄膜(4)的上层为导电背电极(5);所述的云母衬底(1)的厚度为0.02‑2mm,在400nm‑3000nm的透过率为90%,能够承受1100℃的温度。
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