发明名称 |
一种负性化学放大光刻胶及其成像方法 |
摘要 |
本发明提供一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法,该负性化学放大光刻胶含有苯酚类树脂、光致产酸剂、交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂。其中苯酚类树脂是所述新型负性化学放大光刻胶的主体材料,光致产酸剂是在光照时能够产生一定强度的酸,交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应。在所述新型负性化学放大光刻胶成像方法中包括涂布、烘烤、曝光、烘烤和显影等步骤。本发明所述的化学放大负性光刻胶,可以有效提高光刻胶的分辨率及感光速度,同时与正性光刻胶所用的试剂相同,适用于高档集成电路、平板显示及半导体照明芯片制造等领域。 |
申请公布号 |
CN103309160B |
申请公布日期 |
2015.08.26 |
申请号 |
CN201310277171.4 |
申请日期 |
2013.07.03 |
申请人 |
北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司 |
发明人 |
孙嘉;陈昕;罗杰·森特;李冰;刁梅;李海波;韩现涛 |
分类号 |
G03F7/038(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/038(2006.01)I |
代理机构 |
北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 |
代理人 |
谢亮;赵德兰 |
主权项 |
一种负性化学放大光刻胶,其包含苯酚类树脂<b>、</b>光致产酸剂<b>、</b>交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂;所述交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应;所述苯酚类树脂<b>、</b>光致产酸剂<b>、</b>交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂的质量配比为23‑26:1‑4:28‑32:1‑2:1.5‑2:65‑75。 |
地址 |
101312 北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区) |