发明名称 METHOD FOR PRODUCING GRAPHITE THIN FILM
摘要 <p>【課題】グラファイト薄膜の炭素炭素結合による骨格を良好に維持しつつ、窒素原子の含有量が高くなりすぎるのも抑制可能なグラファイト薄膜の製造方法を提供すること。【解決手段】炭素原子3と窒素原子4と金属原子5とを含む薄膜A(符号7)を基板1上に形成した後、熱処理により、基板1上に窒素原子を含有するグラファイト薄膜9を形成することを特徴とするグラファイト薄膜の製造方法。薄膜Aを形成する方法としては、例えば、(a)不活性ガス、(b)炭素含有分子を含むガス、及び、(c)窒素含有分子を含むガスを有する雰囲気中で、前記金属をスパッタする方法が挙げられる。【選択図】図1</p>
申请公布号 JP2015151302(A) 申请公布日期 2015.08.24
申请号 JP20140026609 申请日期 2014.02.14
申请人 DENSO CORP 发明人 OSHIMA HISAZUMI ; OKEYUI KENJI
分类号 C01B31/04;C01B31/02 主分类号 C01B31/04
代理机构 代理人
主权项
地址