| 主权项 |
一种基板处理装置，包含：一腔室本体，其具有一打开的上侧，该腔室本体提供一内部空间，其中执行关于一基板的处理；一腔室盖位于该腔室本体的上半部，用于关闭该腔室本体打开的上侧；以及一喷洒头，其位于该腔室盖的下半部，朝向该内部空间供应一处理气体，其中该腔室本体包含：至少一收敛口，其位沿于该腔室本体的一侧壁内侧，让该内部空间内的该处理气体收敛；复数个内部排气孔，其沿着该腔室本体的该侧壁定义，以与该收敛口及该内部空间连通；复数个内部排气口，其连接至该收敛口；以及一分配环，其位于该收敛口上，该分配环具有复数个分配孔。
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