| 主权项 |
一种使用一复合目标结构来量测一微影程序之一属性之方法，该复合(composite)目标结构包括已藉由该微影程序形成于一基板上之复数个组件(component)结构，该方法包含如下步骤：(a)使用在预定照明条件下由该等组件目标结构绕射之辐射之一预定部分来形成及侦测该复合目标结构之一影像；(b)在该经侦测影像中识别一或多个所关注区(regions of interest)，该或每一所关注区对应于该等组件目标结构中之一特定组件目标结构；及(c)处理该所关注区内之像素值以获得该组件结构之属性之一量测，其中该复合目标结构经形成为在该等组件结构之间具有分离区带，使得该一或多个所关注区之一位置之一变化不会显着地影响该属性之该所获得量测，其中在步骤(c)中，将该等所关注区选择为其边界落入对应于该等分离区带之该等影像区内。
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