发明名称 | 膜形成设备 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI497593 | 申请公布日期 | 2015.08.21 |
申请号 | TW101121810 | 申请日期 | 2012.06.18 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 佐藤泉;白谷勇雄;浅利聪;村上强 |
分类号 | H01L21/31;C23C16/46;H01L21/205 | 主分类号 | H01L21/31 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种膜形成设备,包含:一基板固定单元,其固定复数基板,使该复数基板彼此间隔堆叠;一反应室,其容纳该基板固定单元;一原料气体供应管,其供应形成于该复数基板上之一薄膜的一原料气体至该复数基板,该复数基板系由容纳于该反应室中之该基板固定单元固定;一支撑单元,其支撑该反应室;一加热单元,其设置于该反应室外侧且加热该复数基板;一保护管,其包括固定至该支撑单元的一端部,该保护管沿该复数基板的一排列方向在该基板固定单元与该反应室之间延伸,且包括插入于其中的一温度量测单元;以及一突出部,其系设置于该保护管的一外表面与该反应室的一内表面的至少一者之上,且于该保护管的该外表面与该反应室的该内表面之间提供一间隙。 | ||
地址 | 日本 |