发明名称 | 电浆处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI497583 | 申请公布日期 | 2015.08.21 |
申请号 | TW099141821 | 申请日期 | 2010.12.02 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 饭塚八城 |
分类号 | H01L21/3065;H05H1/24 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 代理人 | 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼 | |
主权项 | 一种电浆处理装置,具备有:下部电极,系设置于处理室内,兼作为用以载置基板之载置台;上部电极,系对向于该下部电极而设置于该处理室内,具有作为淋洒头之功能,且可上下移动而可变更与该下部电极之间隔,所述淋洒头系自对向于该下部电极之对向面所复数设置之气体喷出孔朝该基板以淋洒状供给气体者;盖体,系设置在该上部电极之上侧,将该处理室的上部开口加以气密封闭者;复数排气孔,系形成于该对向面;环状构件,系沿着该上部电极周缘部朝下方突出设置,可连动于该上部电极而上下移动,当位于下降位置会形成由该下部电极、该上部电极以及该环状构件所围绕而成之处理空间;复数环状构件侧气体喷出孔,系开口于该环状构件之内壁部份,用以对该处理空间内供给气体;以及复数环状构件侧排气孔,系开口于该环状构件之内壁部份,用以对该处理空间内进行排气。 | ||
地址 | 日本 |