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发明名称 减少粒子产生之强磁性材溅镀靶
摘要
申请公布号 TWI496921 申请公布日期 2015.08.21
申请号 TW099135413 申请日期 2010.10.18
申请人 ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 发明人 荻野真一;佐藤敦;中村佑一郎;荒川笃俊
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种强磁性材溅镀靶，系以Cr为20mol%以下、其余为Co之组成之金属为主成分，其特征在于：该靶组织具有金属基材(A)、及该(A)中含有90wt%以上之Co之扁平状相(B)；该相(B)之平均粒径为10μm以上150μm以下，且平均纵横比为1：2~1：10。
地址 日本
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