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经营范围
发明名称
气相成长装置
摘要
申请公布号
TWI497570
申请公布日期
2015.08.21
申请号
TW099116272
申请日期
2010.05.21
申请人
大阳日酸股份有限公司;大阳日酸CSE股份有限公司
发明人
山冈优哉;内山康右
分类号
H01L21/205;C23C16/54
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
一种气相成长装置,其系具备自公转机构之横式气相成长装置,该自公转机构包括:可旋转地设置于腔室内之圆盘状基座、沿该基座之外周部圆周方向形成且分别设置于复数个圆形开口内之环状轴承构件、分别可旋转地载置于各轴承构件上之圆盘状均热板、分别载置于各均热板上之外齿轮构件、具备与该外齿轮构件啮合之内齿轮之环状固定内齿轮构件、自上述基座之背面侧而对保持于上述外齿轮构件表面之基板进行加热之加热手段、以及在平行于上述基板表面之方向导引原料气体之流道;其中,将上述轴承构件之外径设定为小于上述基板外径之尺寸。
地址
日本
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