发明名称 测量方法、载台装置、及曝光装置
摘要
申请公布号 TWI497218 申请公布日期 2015.08.21
申请号 TW097127126 申请日期 2008.07.17
申请人 尼康股份有限公司 发明人 荒井大
分类号 G03F7/20;H01L21/68 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种液浸曝光装置,其以曝光光束经由投影光学系统和液体来曝光基板,该装置包含:框架构造,其具有设成用以支持该投影光学系统之测量框架;检测系统,其被该测量框架支持且与该投影光学系统分离,且设成用以检测该基板之标记;基座构件,其设于该投影光学系统与该检测系统之下;载台,其设于该基座构件上且可相对该投影光学系统与该检测系统移动,该载台具有用以支持该基板的支撑构件以及具有设置成自该载台向外突出的突出构件,使得该突出构件被设于该载台的侧面的外侧;液浸系统,其具有设置成围绕该投影光学系统之光学元件之嘴单元,该光学元件能与该液体接触,该载台系位于相对于该嘴单元的下表面,该嘴单元具有回收部,该回收部回收在该嘴单元之下侧面处之液体;光栅构件,其被该测量框架支持,使得该载台可移动于该光栅构件下方;以及读头构件,其设置在该突出构件上,该读头构件照射射束至该光栅构件;该载台之位置资讯,系于该基板之曝光动作与该标记之检测动作之期间被该检测系统测量。
地址 日本