空白光罩、光罩及空白光罩之制造方法

主权项

一种空白光罩，其系用于制作适用ArF准分子雷射光的光罩之空白光罩，其系在透光性基板上具有多层构造之薄膜，该薄膜的最上层系由含铬、氮、及氧的材料所构成的非晶构造，该铬的含量为40atom%以下，且氮与氧的含量之合计为50atom%以上。