发明名称 |
聚乙烯醇系薄膜之制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI496672 |
申请公布日期 |
2015.08.21 |
申请号 |
TW101129903 |
申请日期 |
2005.12.28 |
申请人 |
日本合成化学工业股份有限公司 |
发明人 |
大野秀树;千神昭彦;早川诚一郎 |
分类号 |
B29C41/46;G02B5/30;B29K29/00;B29L7/00 |
主分类号 |
B29C41/46 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种聚乙烯醇系薄膜之制造方法,系在制造薄膜宽度为3m以上,且薄膜厚度为30~70μm之聚乙烯醇系薄膜时,包含有:利用流延法施行薄膜制膜的步骤;以及将上述薄膜利用分别具有40℃以上表面温度且数量为12~25根之热辊施行加热处理的步骤;上述施行加热处理的步骤中,上述薄膜面内任意1点与各个上述热辊间的接触时间系1~6秒。
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地址 |
日本 |