发明名称 光阻图型涂布剂及光阻图型之形成方法
摘要
申请公布号 TWI497200 申请公布日期 2015.08.21
申请号 TW098131611 申请日期 2009.09.18
申请人 JSR股份有限公司 发明人 堀雅史;三田伦广;藤原考一;稗田克彦;山口佳一;柿泽友洋
分类号 G03F7/004;G03F7/26;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻图型涂布剂,其特征系含有:具有羟基之树脂、溶剂、一般式(4)表示之化合物及选自至少具有2个下述一般式(1)表示之基的化合物、具有下述一般式(2)表示之化合物之至少1种的化合物, (前述一般式(1)中,R0系表示氢原子或甲基,n系表示0~10之整数)(前述一般式(2)中,R1及R2系表示氢原子或下述一般式(3)表示之基,但是R1及R2之至少任一系下述一般式(3)表示之基)(前述一般式(3)中,R3及R4系表示氢原子、碳数1~6之烷基、或碳数1~6之烷氧烷基,或表示相互连结形成之碳数2~10的环,R5系表示氢原子或碳数1~6之烷 基)(前述一般式(4)中,R6及R7系相互独立表示单键、伸甲基、碳数2~10之直链状或支链状之伸烷基、或碳数3~20之2价环状烃基,R8系表示碳数1~10之直链状或支链状之烷基、或碳数3~20之1价环状烃基,m系0或1)。
地址 日本