VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG CHEMISCH-MECHANISCHER POLIERSCHICHTEN

摘要

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Polierschicht zum Polieren eines Substrats bereitgestellt, das aus mindestens einem von einem magnetischen Substrat, einem optischen Substrat und einem Halbleitersubstrat ausgewählt ist, umfassend: Bereitstellen eines flüssigen Vorpolymermaterials, Bereitstellen einer Mehrzahl von hohlen Mikrokügelchen, Aussetzen der Mehrzahl von hohlen Mikrokügelchen gegenüber einer Kohlendioxidatmosphäre für einen Aussetzzeitraum zur Bildung einer Mehrzahl von behandelten hohlen Mikrokügelchen, Vereinigen des flüssigen Vorpolymermaterials mit der Mehrzahl von behandelten hohlen Mikrokügelchen zur Bildung eines aushärtbaren Gemischs, Umsetzen des aushärtbaren Gemischs zur Bildung eines ausgehärteten Materials, wobei mit der Umsetzung≤24 Stunden nach der Bildung der Mehrzahl von behandelten hohlen Mikrokügelchen begonnen wird, und Abtrennen von mindestens einer Polierschicht von dem ausgehärteten Material, wobei die mindestens eine Polierschicht eine Polieroberfläche aufweist, die zum Polieren des Substrats angepasst ist.