Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen

摘要

Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist eine Lichtquelle (LS) auf, die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen eingerichtet ist. Im Lichtweg zwischen der Lichtquelle (LS) und einer Zielfläche (38) ist ein Array (28) von optischen Elementen (30) angeordnet, die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine im Lichtweg zwischen dem Array (28) und der Zielfläche (38) angeordnete verstellbare Lichtablenkungsoptik (32) ist dazu eingerichtet, auftreffendes Licht mit unterschiedlichen Ablenkwinkeln abzulenken. Eine Steuereinrichtung (52) steuert die Lichtablenkungsoptik (32) so an, dass eine Änderung der Ablenkwinkel zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen erfolgt.