| 摘要 |
<p>본 발명은, 공정 챔버, 상기 공정 챔버에서 처리되는 플렉시블 기판을 공급하는 공급롤, 처리된 상기 플렉시블 기판이 회수되는 회수롤, 상기 공정 챔버 내에 공정가스를 공급하는 가스공급부, 상기 공정 챔버 내에 회전 가능하게 설치되며, 외주면을 따라 형성된 안착면이 회전하면서 연속적으로 공급되는 플렉시블 기판을 지지하는 회전 스테이지, 상기 회전 스테이지 내에 유로가 형성되고, 상기 유로 내부로 냉매에 의한 순환에 의하여 상기 플렉시블 기판을 쿨링할 수 있는 쿨링부 및 상기 회전 스테이지에 원주 방향을 따라 설치되거나 상기 회전 스테이지의 안착면과 대향되는 곡면으로 형성되는 외부 전극을 가지는 플라즈마 발생부를 포함하는 플렉시블 기판 처리장치 및 이를 이용한 플렉시블 기판 처리 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 롤투롤 방식을 사용하여 생산성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 플렉시블 기판 처리가 수행되는 공간에 이송 및 처리를 동시에 수행할 수 있도록 하여 이물질에 의한 손상을 방지하여 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.</p> |
