| 摘要 |
<p>【課題】ＥＵＶ光源装置のデブリ低減装置において、回転式ホイルトラップを包囲するカバー部材が過熱するのを防ぐこと。【解決手段】プラズマＰと、プラズマＰから放射される光を集光する集光鏡の間に、回転式ホイルトラップ４と、それを包囲するカバー部材１１から構成されるデブリ低減装置が配置される。また、プラズマＰとカバー部材１１との間には、集光鏡の集光範囲内を進行する光が通過する開口部６ａを有しプラズマＰからの放射がカバー部材１１に到達するのを遮へいする遮へい部材6と、該遮へい部材６からカバー部材１１への熱輻射を抑制する熱遮へい部材７を設ける。遮へい部材６により、カバー部材１１に加わる熱負荷を抑制することができ、また、熱遮蔽部材７を設けているので、遮へい部材６が過熱しても遮へい部材６からの輻射をさえぎり、カバー部材１１への入熱を防ぐことができる。【選択図】 図１</p> |
