| 发明名称 | 用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置用阵列基板的方法，所述方法使用蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物按组合物总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢(H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>)；b)0.1～5wt％的有机酸；c)0.1～5wt％的磷酸盐化合物；d)0.1～5wt％的水溶性环胺化合物；e)0.1～5wt％的每个分子具有氮原子与羧基的水溶性化合物；f)0.01～1.0wt％的含氟化合物；g)0.001～5wt％的多元醇表面活性剂；以及h)其余为水。 | ||
| 申请公布号 | CN103052907B | 申请公布日期 | 2015.08.19 |
| 申请号 | CN201080068299.4 | 申请日期 | 2010.07.30 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 崔容硕;李石;尹暎晋;李友兰 |
| 分类号 | G02F1/136(2006.01)I;C09K13/08(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/136(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 张颖玲;徐川 |
| 主权项 | 一种制造液晶显示装置用阵列基板的方法，所述方法包括：1)使用蚀刻剂组合物蚀刻配置在基板上的铜基金属层，因此形成栅极；2)形成使所述栅极绝缘的栅绝缘层；3)在所述栅绝缘层上形成半导体层；4)形成使所述半导体层绝缘的绝缘层；5)在使所述半导体层绝缘的绝缘层上形成铜基金属层，而且使用所述蚀刻剂组合物蚀刻该铜基金属层，因此形成源极/漏极；以及6)形成电连接到所述漏极的像素电极，其中，1)和5)中的蚀刻剂组合物按组合物的总重量计包含：a)5～25wt％的过氧化氢；b)0.1～5wt％的有机酸；c)0.1～5wt％的磷酸盐化合物；d)0.1～5wt％的水溶性环胺化合物；e)0.1～5wt％的每个分子具有氮原子与羧基的水溶性化合物；f)0.01～1.0wt％的含氟化合物；g)0.001～5wt％的三乙二醇；以及h)其余为水。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||