利用相容化学品的基板刷子擦洗和接近清洗干燥程序、接近基板制备程序和实施前述程序的方法、设备和系统

摘要

一种用于清洗和干燥基板的正面和背面的方法。该方法包括使用擦洗流体化学品擦洗基板的背面。该方法还包括一旦完成背面的擦洗之后，就在基板的正面上施加正面弯液面。该正面弯液面含有正面清洗化学品，而正面清洗化学品与该擦洗液体化学品呈化学性相容。还提供了一种基板的表面的制备方法，该方法包括使用弯液面扫掠基板的表面，使用弯液面制备基板的表面和在未进行冲洗操作的情况下，在已制备的基板的表面上进行下一个制备操作。

主权项

一种用于清洁和干燥半导体基板的正面和背面的方法，所述方法包括：使用刷子擦洗化学品刷子擦洗所述半导体基板的背面；与所述半导体基板的正面形成正面弯液面，且与所述半导体基板的背面形成背面弯液面，所述正面弯液面和所述背面弯液面的形成在刷子擦洗所述背面之后执行；以及通过使所述正面弯液面沿所述半导体基板的正面移动并使所述背面弯液面沿所述半导体基板的背面移动而扫掠所述半导体基板的正面和所述半导体基板的背面，所述正面弯液面和所述背面弯液面使用与所述刷子擦洗化学品相容的化学品形成，其中所述基板的正面和所述基板的背面的扫掠配置成清洁并干燥所述基板的正面和所述基板的背面。