发明名称 | 衬底处理设备与加热设备 | ||
摘要 | 本发明涉及衬底处理设备与加热设备。本发明涉及用于对衬底进行热处理的设备,且更明确地说,涉及用于执行平板显示器面板的衬底的热处理的衬底处理设备。根据本发明的实施例,一种衬底处理设备包括:处理室,具有衬底处理空间;加热外壳,具有发射辐射能的加热灯和反射从所述加热灯发射的辐射能的反射块;以及窗口,在所述处理室与所述加热外壳之间维持密封且将所述辐射能透射到衬底。 | ||
申请公布号 | CN103383188B | 申请公布日期 | 2015.08.19 |
申请号 | CN201310158850.X | 申请日期 | 2013.05.02 |
申请人 | AP系统股份有限公司 | 发明人 | 林一焕;沈长禹;金哲洙;崔乘爱 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明;张洋 |
主权项 | 一种衬底处理设备,包括:处理室,具有衬底处理空间;加热外壳,具有发射辐射能的加热灯和反射从所述加热灯发射的辐射能的反射块;以及窗口,维持所述处理室与所述加热外壳之间的密封且将所述辐射能透射到衬底,其中所述加热外壳包括具有多个通孔的扩散板,所述扩散板设置在所述反射块之下,且其中由所述反射块反射的所述辐射能穿过所述通孔且传递到所述窗口,其中所述通孔具有不同尺寸,且随着所述通孔远离所述加热灯,所述通孔具有较大尺寸。 | ||
地址 | 韩国京畿道华城市东滩面东部大路830-46 |