发明名称 具有硬质涂层的树脂基板的制造方法以及具有硬质涂层的树脂基板
摘要 本发明提供能够在树脂基板上形成具有足够的耐擦伤性的硬质涂层的具有硬质涂层的树脂基板的制造方法以及耐擦伤性优异的具有硬质涂层的树脂基板。本发明的具有硬质涂层的树脂基板的制造方法是在树脂基板的至少一侧的面上具有硬质涂层的树脂基板的制造方法,其特征是,包括下述工序:将包含有机聚硅氧烷的硬质涂层剂组合物涂布在上述树脂基板的至少一侧的面上以形成由上述组合物构成的涂膜,然后对上述涂膜实施第一热处理来形成固化膜的工序;在氧浓度为5体积%以下的气氛下对上述固化膜实施Xe<sub>2</sub>准分子激光照射处理的照射工序;和对上述照射工序后的固化膜进行氧化处理后,进一步实施第二热处理来制作硬质涂层的工序。
申请公布号 CN102695565B 申请公布日期 2015.08.19
申请号 CN201180005574.2 申请日期 2011.01.21
申请人 旭硝子株式会社 发明人 山本今日子;涩谷崇
分类号 B05D3/06(2006.01)I;B05D5/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I 主分类号 B05D3/06(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 胡烨
主权项 一种具有硬质涂层的树脂基板的制造方法,其为在树脂基板的至少一侧的面上具有硬质涂层的树脂基板的制造方法,其特征在于,依次包括下述工序:将包含有机聚硅氧烷和溶剂的硬质涂层剂组合物涂布在所述树脂基板的至少一侧的面上以形成由所述组合物构成的涂膜,然后对所述涂膜实施第一热处理来形成固化膜的工序;在氧浓度为5体积%以下的气氛下对所述固化膜实施Xe<sub>2</sub>准分子激光照射处理的照射工序;和对所述照射工序后的固化膜进行氧化处理后,进一步实施第二热处理来制作硬质涂层的工序;所述硬质涂层剂组合物中包含下述有机聚硅氧烷(a)和下述有机聚硅氧烷(b):有机聚硅氧烷(a):有机聚硅氧烷(a)以T1:T2:T3=0~5:15~40:55~85、且T3/T2=1.5~4.0的比例含有下述T1~T3各单元;此外,对于有机聚硅氧烷(a)中的OX基,其为烷氧基的个数(A)和其为羟基的个数(B)的比例、即(B)/(A)在每分子中平均为12.0以上;并且,有机聚硅氧烷(a)的质均分子量为800~8000;T1:R‑Si(‑OX)<sub>2</sub>(‑O<sup>*</sup>‑)T2:R‑Si(‑OX)(‑O<sup>*</sup>‑)<sub>2</sub>T3:R‑Si(‑O<sup>*</sup>‑)<sub>3</sub>式中,R表示氢原子或者碳数1~10的取代或非取代的1价有机基,X表示氢原子或碳数1~6的烷基,O<sup>*</sup>表示连接2个硅原子的氧原子;上述化学式中的R并不限定于1种,T1、T2、T3分别含有多种R;此外,上述化学式中的‑OX表示羟基或烷氧基;有机聚硅氧烷(b):有机聚硅氧烷(b)是质均分子量为有机聚硅氧烷(a)的质均分子量的1/10~1/1.5倍的有机聚硅氧烷。
地址 日本东京
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