| 发明名称 | 一种硅片清洗设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型实施例公开了一种硅片清洗设备，该硅片清洗设备包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。实施本实用新型实施例，具有如下有益效果：本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置，不间断的向硅片喷淋纯水，避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化，保证了清洗质量。 | ||
| 申请公布号 | CN204564642U | 申请公布日期 | 2015.08.19 |
| 申请号 | CN201520249710.8 | 申请日期 | 2015.04.23 |
| 申请人 | 武汉宜田科技发展有限公司 | 发明人 | 洪育林;张震;安冠宇;李文文;刘凯 |
| 分类号 | B08B3/04(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种硅片清洗设备，其特征在于，其包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。 | ||
| 地址 | 438400 湖北省黄冈市红安县经济开发区新型产业园 | ||