| 摘要 |
<p>본 발명은 내부 공간에 열 플라스마를 발생시키는 전극봉을 구비하는 플라스마 토치부; 플라스마 토치부에 반응물을 공급하는 반응물공급부; 플라스마 토치부에 반응가스 또는 운반가스를 공급하는 가스공급부; 및 반응물 및 반응가스를 반응시키는 유동층 반응기를 포함하는 실리콘 제조용 열 플라스마 유동층 반응장치에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 저가 원료를 이용하여 고순도 실리콘 입자의 연속적인 생산이 가능하며, 폭발 위험성이 줄어들어 안전하게 실리콘 입자를 제조할 수 있다.</p> |
