发明名称 含第4族金属的膜的沉积方法
摘要 本发明涉及含第4族金属的膜的沉积方法,尤其是一种利用通式M(OR<sup>1</sup>)(OR<sup>2</sup>)(R<sup>3</sup>C(O)C(R<sup>4</sup>)C(O)XR<sup>5</sup><sub>y</sub>)<sub>2</sub>的前体通过原子层沉积形成含金属膜的方法,其中,M是第4族金属;R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>可以相同或不同,选自直链或支链C<sub>1-10</sub>烷基和C<sub>6-12</sub>芳基;R<sup>3</sup>可选自直链或支链C<sub>1-10</sub>烷基和C<sub>6-12</sub>芳基,优选为C<sub>1-3</sub>烷基;R<sup>4</sup>是选自氢、C<sub>1-10</sub>烷基和C<sub>6-12</sub>芳基,优选为氢;R<sup>5</sup>是选自直链或支链C<sub>1-10</sub>烷基和C<sub>6-12</sub>芳基,优选为甲基或乙基;X=O或N,其中当X=O时,y=1且R<sup>1,2和5</sup>是相同的,当X=N时,y=2且每个R<sup>5</sup>可以相同或不同。
申请公布号 CN102041482B 申请公布日期 2015.08.19
申请号 CN201010521611.2 申请日期 2010.10.25
申请人 气体产品与化学公司 发明人 S·V·埃瓦诺夫;X·雷;H·程;D·P·斯佩斯;金武性
分类号 C23C16/40(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/40(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 陈文平;尚继栋
主权项 在原子层沉积条件下向衬底上沉积含至少一种金属的膜的方法,所述金属选自钛、铪和锆,所述方法包括将衬底与如下通式所示的组成物接触:<img file="FSB0000139813580000011.GIF" wi="684" he="593" />其中,M是选自Ti、Zr和Hf的第4族金属;其中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>是相同或不同的,选自直链或支链C<sub>1‑10</sub>烷基和C<sub>6‑12</sub>芳基;R<sup>3</sup>是选自支链C<sub>3‑6</sub>烷基和C<sub>6‑12</sub>芳基;R<sup>4</sup>是选自氢、C<sub>1‑3</sub>烷基和C<sub>6‑12</sub>芳基;R<sup>5</sup>是选自直链或支链C<sub>1‑10</sub>烷基和C<sub>6‑12</sub>芳基;X=O,y=1且R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>5</sup>相同。
地址 美国宾夕法尼亚州