光罩

摘要

本发明提供一种光罩，适用于微影机台，且光罩包括基板与设置在基板上的光罩图案。光罩图案包括至少一主要图案及多个次解析辅助图案。次解析辅助图案彼此分离设置在主要图案的周围，其中各个次解析辅助图案与主要图案之间的距离为主要图案的线宽的约3倍至10倍。上述光罩可在晶片上产生较佳的成像品质。

主权项

一种光罩，适用于一微影机台，且该光罩包括一基板与设置在该基板上的一光罩图案，其特征在于，该光罩图案包括：至少一主要图案；以及多个次解析辅助图案，彼此分离设置在该主要图案的长边的两侧，其中各该次解析辅助图案与该主要图案之间的距离为该主要图案的线宽的3倍至10倍，且各该次解析辅助图案与该主要图案之间的距离的方向和该主要图案的线宽的方向互相平行。