一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备及其使用方法

摘要

本发明涉及一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，包括一个密封的真空腔体，在该真空腔体内设置有一个圆环形的转架，在该转架上均匀排列有工件，在转架中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管，该真空腔体一体化连接有左右两个对称的凸腔，两个凸腔内各设置有上下两个料口，在左右两个凸腔的上下两个料口之间还设置有一个气管，在右边的凸腔上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔，真空腔体连通有抽真空系统。深空灰的颜色均匀稳定、光泽度高、附着力好、硬度高、耐候耐磨，在3C行业又增加了一款高端大气上档次的镀膜颜色。

主权项

一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，其特征是：包括一个密封的真空腔体，在该真空腔体内设置有一个圆环形的转架，在该转架上均匀排列有工件，在转架中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管，该真空腔体一体化连接有左右两个对称的凸腔，两个凸腔内各设置有上下两个料口，其中左边的凸腔内设有放置有一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，右边的凸腔则对应设置有放置一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，在左右两个凸腔的上下两个料口之间还设置有一个气管，在右边的凸腔上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔，在真空腔体的上端连通有一个抽真空系统。