发明名称 | 一种镉镀层的退除方法 | ||
摘要 | 一种镉镀层的退除方法,其步骤如下;(1)按如下浓度配制退膜溶液:铬酐80~120g/L,硫酸3~4g/L;具体过程为:(a)选择预设的浓度,计算需要添加铬酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽内注入2/3预设溶液体积的水;(c)边搅拌边加入铬酐,至铬酐完全溶解;(d)加水至预设溶液的体积;(e)边搅拌边加入硫酸,搅拌均匀;(2)将待处理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5μm/h;温度为室温。按此退膜方法处理的镀镉工件,外观呈金属颜色,表面有轻微水痕,无镀层残留,基本不腐蚀金属基体,退膜速率相对稳定,对镀层的退除时间易操控,可100%一次性退镀。退镀并重新电镀镉后外观为平滑细晶粒、均匀、细致、有光泽。无粗糙、烧焦、麻点、黑点、起泡和脱落现象。 | ||
申请公布号 | CN104846385A | 申请公布日期 | 2015.08.19 |
申请号 | CN201510334516.4 | 申请日期 | 2015.06.17 |
申请人 | 沈阳飞机工业(集团)有限公司 | 发明人 | 于海;杨波;于宽深 |
分类号 | C23G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C23G1/02(2006.01)I |
代理机构 | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人 | 郑贤明 |
主权项 | 一种镉镀层的退除方法,其特征在于,步骤如下;(1)按如下浓度配制退膜溶液:铬酐(CrO<sub>3</sub>) 80~120g/L硫酸(H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>) 3~4g/L;具体过程为:(a)选择预设的浓度,计算需要添加铬酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽内注入2/3预设溶液体积的水;(c)边搅拌边加入铬酐,至铬酐完全溶解;(d)加水至预设溶液的体积;(e)边搅拌边加入硫酸,搅拌均匀;(2)将待处理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5μm/h;温度为室温。 | ||
地址 | 110034 辽宁省沈阳市皇姑区陵北街1号 |