发明名称 一种镉镀层的退除方法
摘要 一种镉镀层的退除方法,其步骤如下;(1)按如下浓度配制退膜溶液:铬酐80~120g/L,硫酸3~4g/L;具体过程为:(a)选择预设的浓度,计算需要添加铬酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽内注入2/3预设溶液体积的水;(c)边搅拌边加入铬酐,至铬酐完全溶解;(d)加水至预设溶液的体积;(e)边搅拌边加入硫酸,搅拌均匀;(2)将待处理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5μm/h;温度为室温。按此退膜方法处理的镀镉工件,外观呈金属颜色,表面有轻微水痕,无镀层残留,基本不腐蚀金属基体,退膜速率相对稳定,对镀层的退除时间易操控,可100%一次性退镀。退镀并重新电镀镉后外观为平滑细晶粒、均匀、细致、有光泽。无粗糙、烧焦、麻点、黑点、起泡和脱落现象。
申请公布号 CN104846385A 申请公布日期 2015.08.19
申请号 CN201510334516.4 申请日期 2015.06.17
申请人 沈阳飞机工业(集团)有限公司 发明人 于海;杨波;于宽深
分类号 C23G1/02(2006.01)I 主分类号 C23G1/02(2006.01)I
代理机构 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 代理人 郑贤明
主权项 一种镉镀层的退除方法,其特征在于,步骤如下;(1)按如下浓度配制退膜溶液:铬酐(CrO<sub>3</sub>)   80~120g/L硫酸(H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>)  3~4g/L;具体过程为:(a)选择预设的浓度,计算需要添加铬酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽内注入2/3预设溶液体积的水;(c)边搅拌边加入铬酐,至铬酐完全溶解;(d)加水至预设溶液的体积;(e)边搅拌边加入硫酸,搅拌均匀;(2)将待处理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5μm/h;温度为室温。
地址 110034 辽宁省沈阳市皇姑区陵北街1号
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