基于纳米压印工艺的可见与近红外光吸收体及其加工方法

摘要

基于纳米压印工艺的可见与近红外光吸收体及其加工方法，涉及电磁波吸收体。所述基于纳米压印工艺的可见与近红外光吸收体为3层结构，从下至上依次为衬底、金属层和介电层，在介电层上设有金属微纳阵列。1)在衬底上蒸镀金属层，在金属层上沉积介电层；2)在步骤1)所得的介电层上制备双层胶膜，所述双层胶膜由正性光刻胶底层和纳米压印胶顶层组成；3)将步骤2)中所得的基片置于纳米压印设备里，利用中间聚合物模板压印，然后脱模，得到压印图形；4)利用等离子刻蚀去除压印残留的纳米压印胶，利用正胶显影液浸泡去除露在外面的正性光刻胶；5)在步骤4)的基片上蒸镀一层金属材料；6)去除多余的双层胶膜，得到金属微纳阵列。

主权项

基于纳米压印工艺的可见与近红外光吸收体，其特征在于为3层结构，从下至上依次为衬底、金属层和介电层，在介电层上设有金属微纳阵列。