一种低压化学气相沉积装置

摘要

本实用新型涉及一种低压化学气相沉积装置，包括真空机组、沉积室、激振装置、反应室、反应气体通道和控制器，所述反应气体通道与反应室进气口连通，所述反应室排气口与真空室进气口连通，所述真空室排气口通过进气管与真空机组连通，所述激振装置包括激振器和激振台，所述激振台设置于沉积室内，所述激振器通过输出杆与激振台传动配合连接，反应室外壁围绕设有加热丝，所述反应气体通道内气体的输入开关由控制器控制，所述激振器和加热丝的开关均由控制器控制。本实用新型利用激振器产生的振动在薄膜沉积过程中对薄膜残余应力进行消除，实现薄膜应力在线消除，实现低应力薄膜的快速沉积制造。

主权项

一种低压化学气相沉积装置，其特征在于：包括真空机组、沉积室、激振装置、反应室、反应气体通道和控制器，所述反应气体通道与反应室进气口连通，所述反应室排气口与真空室进气口连通，所述真空室排气口通过进气管与真空机组连通，所述激振装置包括激振器和激振台，所述激振台设置于沉积室内，所述激振器通过输出杆与激振台传动配合连接，反应室外壁围绕设有加热丝，所述反应气体通道内气体的输入开关由控制器控制，所述激振器和加热丝的开关均由控制器控制。