发明名称 |
透明导电薄膜的制造方法和透明导电薄膜 |
摘要 |
本发明公开了一种透明导电薄膜的制造方法和透明导电薄膜。该透明导电薄膜的制造方法包括:在基板上形成透明导电膜层;对透明导电膜层进行去除导电性处理,形成导电图形和非导电图形。本发明提供的透明导电薄膜的制造方法和透明导电薄膜的技术方案中,在基板上形成透明导电膜层,对透明导电膜层进行去除导电性处理形成导电图形和非导电图形,形成非导电图形的过程仅是透明导电膜层电性的改变,无需去除掉非导电图形,避免了图形肉眼可见的现象,从而避免了对器件光学特性的影响,提高了器件的光学特性;无需采用激光刻蚀的方式去除非导电图形,从而避免了激光刻蚀方式存在的效率低和产生灰尘的问题。 |
申请公布号 |
CN104851524A |
申请公布日期 |
2015.08.19 |
申请号 |
CN201510283994.7 |
申请日期 |
2015.05.28 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
毛雪;高静 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
彭瑞欣;陈源 |
主权项 |
一种透明导电薄膜的制造方法,其特征在于,包括:在基板上形成透明导电膜层;对透明导电膜层进行去除导电性处理,形成导电图形和非导电图形。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |