电容式触摸屏的制作工艺

摘要

本发明涉及触摸屏技术，公开了一种电容式触摸屏的制作工艺，其包括以下步骤：S301、开料；S302、覆干膜；S303、曝光固化干膜层；S304、显像非触摸区铜膜图形；S305、蚀刻铜膜层；S306、清洗掉干膜;S307、重新覆干膜;S308、转印电路路线图;S309、电路图形显像;S310、蚀刻电路线路。通过上述制作工艺的电容式触摸屏，实现了铜膜层电路走线间隔最小值宽度达到0.05mm,比现有的线路走线间隔大大缩小，可制作出窄边框的触摸屏；同时，铜膜层和氧化铟锡薄膜层上的电路线路图形一次性转印，同步蚀刻，非触控区的线路和触控区的电极图案采用两次化学蚀刻，不相互干扰，提升了产品的良品率，简化了生产工序，大大提高了生产效率。

主权项

一种电容式触摸屏的制作工艺，在面板上的氧化铟锡薄膜层和铜膜层上分别蚀刻电路，所述面板由下向上，分别包括PET基板层、氧化铟锡薄膜层和铜膜层，其特征在于，其制作方法包括以下步骤：S301、开料，根据单个产品显示屏的形状、大小和及排版数量，裁切所需要尺寸的面板。S302、覆干膜，使用覆膜机把用于紫外线曝光的干膜材料覆在铜膜层的上表面，形成一层薄膜层；S303、曝光固化干膜层，将排版好的菲林贴合在面板的干膜层上表面，通过曝光机的紫外灯透过菲林照射后，干膜产生聚合反应形成一种稳定的物质附着于铜膜层的上表面，所设计好的非触摸区图形转印在铜膜层上表面的干膜上。S304、非触摸区图形显像，将菲林移离干膜层，使用显影液将转印在干膜层将非触摸区图形显像出来。S305、蚀刻铜膜层，使用铜蚀刻液把触摸区上没有图形部份的铜膜层蚀刻去掉，保留了非触摸区的铜膜层；S306、去掉干膜，把蚀刻完铜膜的面板使用脱干膜液把覆在铜膜层上表面的干膜层洗掉，面板周边图形铜膜层保留，中心部位的铜膜层去除，露出透明的氧化铟锡薄膜层，形成了透明视窗的触摸区。S307、重新覆干膜，在开好视窗的铜膜层和氧化铟锡薄膜层的上表面再次涂覆上干膜层。S308、转印电路图，将设计好电路的菲林贴合在面板的干膜层上表面，通过曝光机的照射后，干膜产生聚合反应形成一种稳定的物质分别附着于图形铜膜层和氧化铟锡薄膜层的上表面，所设计好电路线路图形一次性转印在干膜上表面。S309、电路图形显像，将菲林移离干膜层，使用显影液将转印在干膜层将电路图形显像出来。S310、蚀刻电路线路，把非触摸区的铜膜层电路线路使用铜蚀刻液蚀刻出来，然后使用氧化铟锡薄膜蚀刻液将触摸区的电极电路蚀刻出来。S311、涂覆防氧化层，蚀刻完电路线路后，使用脱膜液把覆在铜膜电路层和氧化铟锡薄膜导电层的上表面的干膜洗除，然后涂覆上防氧化层，把铜膜层和氧化铟锡薄膜ITO导电层上的电路覆盖在触摸面板中间层内。