发明名称 |
基材输送辊 |
摘要 |
提供一种能够不使基材的输送品质下降而对于基材确保宽广的温度控制域的基材输送辊(2a)。基材输送辊(2a)设置在对薄膜基材(W)的表面实施成膜处理的成膜装置(1)中,通过绕中心轴旋转来输送薄膜基材(W),包括:部段(13a),位于沿着上述中心轴的轴向上的部,具有第1外周面;端部段(12a、12b),位于部段(13a)的轴向的两外侧,具有与基材(W)接触的第2外周面,第2外周面具有比第1外周面大的直径;部升降温介质机构,使部段(13a)的温度变化;和两端部升降温机构,使上述各端部段(12a、12b)的温度与上述部段(13a)独立地变化。 |
申请公布号 |
CN104854256A |
申请公布日期 |
2015.08.19 |
申请号 |
CN201380066932.X |
申请日期 |
2013.11.25 |
申请人 |
株式会社神户制钢所 |
发明人 |
大庭尚树;玉垣浩 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
陈国慧;李婷 |
主权项 |
一种基材输送辊,在对基材的表面实施成膜处理的成膜装置中能够绕特定的中心轴旋转地设置来输送上述基材,其特征在于,所述基材输送辊包括:中央部段,设置在沿着上述中心轴的轴向上的中央部,具有第1外周面;一对端部段,分别位于上述中央部段的轴向的两外侧,分别具有与上述中心轴同轴的圆筒状的第2外周面和第3外周面,这些第2外周面和第3外周面通过在上述基材与该第2外周面和第3外周面接触的状态下旋转来输送该基材,并且具有比该第1外周面的直径大的直径,以阻止该基材与上述第1外周面接触;中央部升降温机构,使上述中央部段的温度变化;和两端部升降温机构,使上述各端部段的温度与上述中央部段独立地变化。 |
地址 |
日本兵库县神户市 |