一种用于等离子喷淋头的保护材料及其制备方法和应用方法

摘要

本发明公开了一种用于等离子喷淋头的保护材料，涉及半导体刻蚀技术中用到的等离子设备的抗腐蚀技术，主要由作为主体材料的氧化镁，以及在主体材料中掺杂的含量为0.5~3wt%的氧化钙和含量为0.5~5wt%的氧化钇组成。本发明还提供了该保护材料的制备方法和应用方法，通过该保护材料的设置，能够明显提高等离子喷淋头长时间处于高等离子体环境下的耐腐蚀性能，延长等离子喷淋头的使用寿命，从而降低半导体材料的生产成本。

主权项

一种用于等离子喷淋头的保护材料，其特征在于，主要由作为主体材料的氧化镁，以及在主体材料中掺杂的含量为0.5~3wt%的氧化钙和含量为0.5~5wt%的氧化钇组成；所述氧化镁的纯度大于等于99.5wt%；所述氧化钇的纯度为99.9wt%；所述氧化钙的纯度为99.9wt%；其制备方法如下：（1）按重量配比对氧化镁、氧化钙和氧化钇三种粉料称重备用；（2）将三种粉料置于球磨机中碾磨混合10~14小时；（3）将混合好的粉料装入预定规格的模具中冷压成型；（4）将步骤（3）获得的材料放入真空石墨炉中进行无压烧结，其中，在真空度小于1x10^‑2mbar时开始加热，升温速度为1~10℃/min，并在1200~1800℃的烧结温度下保持70~110min，然后自然冷却获得制备完成的保护材料；所述步骤（2）中，球磨机采用的磨球为ZTA陶瓷球。