发明名称 密封构造、清洁装置、显影装置、处理单元及图像形成装置
摘要 本发明是在密封构造、清洁装置、显影装置、处理单元及图像形成装置中,对于顺着由进口密封件和端部密封的重叠阶梯差形成的间隙朝着显影盒体或清洁盒体的外侧漏出的调色剂进行抑制。是在进口密封件(90)、(190)的两端部中设置了从该两端部开始沿着端部密封(80)、(180)后,内侧边缘朝着显影辊(36)或弹性研磨辊(44)的回转方向倾斜后延伸的调色剂堰塞部(93)-(95)、(193)-(195)。
申请公布号 CN104849988A 申请公布日期 2015.08.19
申请号 CN201510070729.0 申请日期 2015.02.11
申请人 株式会社理光 发明人 原田壮章;久保田智广;藤原宏
分类号 G03G21/00(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G15/08(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I 主分类号 G03G21/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张祥
主权项 一种密封构造,其包括:盒体,其对粉体进行收容;辊,其在外周面上具有粉体载置面;进口密封构件,其被配设在所述辊和所述盒体之间;左右一对的端部密封构件,其以与所述辊的两端部外周面相接的状态来被固定在所述盒体侧,并且,圆周方向一端部与所述进口密封构件的两端部外周面重叠,其特征在于,所述进口密封构件的两端部具有从该两端部开始沿着所述端部密封构件在所述辊的回转方向上延伸的粉体堰塞部,并且,所述粉体堰塞部的内侧边缘具有被夹在所述端部密封构件和所述辊之间的状态下相对于所述辊的转动方向倾斜并延伸的倾斜内侧边缘。
地址 日本东京都