| 摘要 |
<p>열처리 장치는, 제1 방향으로 연장되는 반응관과, 상기 반응관 내에 수용되어, 상기 제1 방향을 따라 복수의 기판을 다단으로 지지 가능한 지지체와, 상기 반응관의 측면에 상기 제1 방향을 따라 간격을 두고 배열하여 설치되어, 상기 반응관의 내부에 가스를 공급하는 복수의 가스 공급관과, 상기 반응관 내에 있어서, 상기 복수의 가스 공급관의 개구 단부와, 상기 반응관 내에 수용된 상기 지지체와의 사이에 배치되고, 상기 복수의 가스 공급관에 각각 대응하는 복수의 개구부가 형성된 판상 부재와, 상기 반응관의 외측에 배치된 가열부를 구비한다.</p> |
